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装備能力

—— 分析測定

誘導結合プラズマ発光分光分析装置(ICP-OES)


             ICP 発光分光分析装置 (Inductively coupled plasma optical emission spectrometer ; ICP-OES) は、6000 ~ 10000K のアルゴンプラズマを発光光源として使用し、霧状にした溶液サンプルをプラズマに導入することで元素固有のスペクトルを発光させ、これらのスペクトルから元素の存在を明らかにし、光の発光強度から元素の濃度を測定することができます。また、高性能な回折格子 (グレーティング) を用いることにより、光源から得られたスペクトルを高分解能に分離することで、およそ75種類の元素を迅速に測定することができます。


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直読式分光発光分析装置

    

       グロー放電質量分析装置(GDMS)は、Ar雰囲気下で試料を陰極としてグロー放電を発生させ、プラズマ内で試料表面をスパッタし、イオン化された構成元素を質量分析計で測定する装置です。固体試料を直接分析する手法で、金属や半導体などの微量と極微量不純物の分析に幅広く用いられています。この分析装置の特徴は、1.Sub-ppm-ppbの幅広い検出限界で、様々な形態の固体試料を直接分析でき、試料整備時の汚染の可能性がないことです。 また、C、N、Oなどの軽元素を含む周期表のすべての元素を測定することができます。2.ほとんどの金属元素で0.1-0.001ng/gまでの高感度と低限界、高純度材料の不純物成分の分析に有効な方法です。


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グロー放電質量分析装置(GDMS)


      グロー放電質量分析装置(GDMS)は、Ar雰囲気下で試料を陰極としてグロー放電を発生させ、プラズマ内で試料表面をスパッタし、イオン化された構成元素を質量分析計で測定する装置です。固体試料を直接分析する手法で、金属や半導体などの微量と極微量不純物の分析に幅広く用いられています。この分析装置の特徴は、1.Sub-ppm-ppbの幅広い検出限界で、様々な形態の固体試料を直接分析でき、試料整備時の汚染の可能性がないことです。 また、C、N、Oなどの軽元素を含む周期表のすべての元素を測定することができる。2.ほとんどの金属元素で0.1-0.001ng/gまでの高感度と低限界、高純度材料の不純物成分の分析に有効な方法である。



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液中パーティクルカウンター(LPC)

       

液中パーティクルカウンター(LPC)は、パーティクルカウンティングの分野における品質管理および研究領域の最先端機器です。 液体中の粒子が狭い検出領域を通過する際、不溶性粒子に阻まれ、センサーの出力信号が変化します。 この原理により、LPCは被検査試料に含まれる粒子の数を正確に検出することができます。 LPCの精密流量は1mlから1000mlを超えるサンプル量までフルレンジで対応します。検出範囲は、0.5μmから600μmまでの業界で最も小さなサンプルでも検出可能にし、操作も簡単でサンプリングが容易で、医薬品レベルの研究検査や金属中の不溶物の検出などに広く使用されます。


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ガス分析装置

     

       半導体分野のマグネトロンスパッタリング成膜プロセスでは、ターゲットに含まれるガスや介在物が、異常プラズマ放電や微小粒子の放出につながり、スパッタ膜の品質を破壊し劣化させ、膜欠陥の増加につながるため、例外的に敏感です。 スパッタリングターゲット中のガスや介在物を制御することは、スパッタ膜品質の制御に大きな影響を及ぼします。 当社は、LECO社の最新型ガス分析計CS844、ON836、RHEN602を保有しており、高純度金属材料中のガス元素の検出が可能です。 3つの分析装置の利点は、1. 分析速度が速い 2.高精度 3.ガス元素の検出限界が低く、CSONは最大1ppm、Hは0.1ppm レベル4.高い自動化構成、自動洗浄装置、さらにタッチパネルと便利なソフトウェアで、再加工した試料でも試料識別などの再入力が必要ありません。



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走査電子顕微鏡


       走査電子顕微鏡は、電子源から発生した電子線を金属や非金属材料の試料上に二次元走査して、そこから発生した信号を結像して画像を取得するものです。この装置は、試料の大きさや形状に制限がなく、大きな試料の本来の表面を直接観察でき、粗面も観察できるため、試料を準備する必要がなく、試料自体の材料組成の異なるライニング度合いを真に観察することができる。 被写界深度が大きく、物質の破断を観察することができ、得られる画像は3次元であるため、より詳細な情報を得ることができます。 試料室の空間が広いため、試料は3自由度(並進3度、回転3度)で動くことができます。

       OxfordEDXは、入射電子による内部電子の励起に基づき、元素の種類や含有量を定性的に分析するための特性X線を発生させるものです。 この手法の特徴は、1.速い、初歩的組成分析、2.汎用性高く、安価で広く利用できる、3.特定の試料(平板、研磨、均質)の定量分析が可能であることです。

       Oxford EBSDは、従来の走査電子顕微鏡の特徴を保ちながら、空間分解能でサブミクロンの回折を実現しました。 走査電子顕微鏡(SEM)では、試料に入射した電子線が試料と相互作用し、結晶や結晶粒の中に規則的に並ぶ格子面を回折させる。 すべての原子面からの回折は「回折パターン」を形成し、EBSDの位相識別に利用することができる。 EBSD技術は、結晶粒の配向、配向差、粒界特性の解析、3D組織再構成、結晶粒の内部配向勾配などの検出や、欠陥密度評価、物理相解析など関連した拡張用途に使用されています。



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江豊電子分析試験センターがCNASの認定を取得



—— HIP装置

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装置名:熱間等方圧加圧装置

最大圧力:130MPa

最高温度:1400

作業室直径:750mm

作業室高度: 1500mm



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装置名:特大型熱間等方圧加圧装置

最大圧力:200MPa

最高温度:1400

作業室直径:1250mm

作業室高度:4400mm


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装置名:スーパーダブル熱間等方圧加圧装置

最大圧力:200MPa

最高温度:2000

作業室直径:770mm

作業室高度:1700mm




——精密機械加工

DMU 5軸マシニングセンター


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最大パレット:6000mm

最大積載量:25トン

最大回転数:10,000rpm

最大送り速度:60m/min



FOOKE 5軸マシニングセンター


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最大ストローク:2000mm

最大積載量:10トン

最大回転数:24,000rpm

最大送り速度:65m/min


PARPAS 5軸マシニングセンタ


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最大パレット:2000mm

最大積載量:5トン

最大回転数:24,000rpm

最大送り速度:65m/min



FANUC 3/4/5軸マシニングセンタ


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最大パレット:700mm

位置決め精度:0.006mm

最大回転数:24,000rpm

最大送り速度:45m/min




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